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真空鍍膜系統
/ ALD原子層沉積鍍膜系統
ALD原子層沉積鍍膜系統
應用領域
生物晶片
綠能生醫產業
半導體晶圓製程、
3D IC封裝、
顯示器封裝
功率元件
常用於Al2O3、HfO2、SiO2,及TiO2
分類:
真空鍍膜系統
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描述
應用領域
生物晶片
綠能生醫產業
半導體晶圓製程、
3D IC封裝、
顯示器封裝
功率元件
常用於Al2O3、HfO2、SiO2,及TiO2
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